中國版 ASML 來了？宇量昇首批 DUV 曝光機啟動量產，但距離艾司摩爾仍有多遠？
根據《The Information》報導，一家由上海國資支持的新創公司已開始小規模生產自主研發的浸潤式 DUV（Deep Ultraviolet）曝光機。
量產的上海公司整合了多家中國 DUV 研發團隊，其中包括國資支持的新創上海宇量昇科技
今年目標交付約 5 台，明年提升至約 20 台，首批設備將送往中芯國際（SMIC）、華虹半導體及長鑫存儲進行驗證。消息曝光後，引發市場擔憂 ASML 長期壟斷地位可能出現裂縫，ASML 股價一度重挫逾 8%，應材、Lam Research、KLA 等設備股同步下跌。
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不過，真正值得關注的不是「中國是否做出 DUV」，而是宇量昇究竟是一家什麼樣的公司，以及它距離 ASML 還有多少差距。
神秘新創宇量昇，股東為華為關連設備廠
宇量昇成立時間並不長，但背景並不簡單。
TrendForce 引述消息，宇量昇成立於 2022 年、註冊資本 10 億人民幣，且華為關聯的半導體設備商新凱來（SiCarrier）是其股東之一；另外，中芯國際自 2025 年 9 月便開始測試宇量昇的浸沒式（Immersion）DUV 光刻機。
技術已非從零開始，而是瞄準 ASML 十多年前產品
去年九月的消息指出，宇量昇最新設備並非追趕 ASML 最新機型，而是接近 ASML 2008 年推出的 Twinscan NXT:1950i 技術水準。
若宇量昇的浸沒式 DUV 達到 ASML 同級水準，配合多重曝光（Multiple Patterning）技術，理論上可支援約 7 奈米等先進製程，但相較 EUV，製程成本、曝光次數與良率控制難度都更高。
與 ASML 還差在哪？
即使宇量昇成功量產，與 ASML 之間仍存在數個世代的差距。
第一，是產品世代。
宇量昇目前主攻浸沒式 DUV，而 ASML 則同時掌握全球最完整的 DUV 與 EUV 產品線，並已開始推進下一代 High-NA EUV。兩者瞄準的市場並不相同。
第二，是量產能力。
報導指出，宇量昇今年規劃生產約 5 台、明年約 20 台；相比之下，ASML 僅浸潤式 DUV 在 2025 年就交付破百台以上，全球市占率接近壟斷。
中國廠商配合驗證，但戰場在中國之外
不過設備做出來，不代表晶圓廠就敢拿來生產。
曝光機必須經過無數晶圓驗證，任何一項表現不穩，都可能造成數億甚至數十億元新台幣的晶圓報廢，因此晶圓廠更換曝光設備的成本極高。
從目前消息來看，中芯國際（SMIC）、華虹半導體及長鑫存儲願意成為宇量昇首批驗證客戶，本身就是一項重要突破。這代表中國本土晶圓廠願意投入產能與時間，協助國產設備完成量產驗證，加速技術成熟。
然而，真正的挑戰在中國之外。
即使宇量昇未來證明產品可穩定運作，三星、台積電、英特爾、美光等國際晶圓大廠，短期內幾乎沒有理由放棄已高度成熟的 ASML 設備，改採仍處於早期驗證階段的新機台。
因此，宇量昇未來數年的主要市場，仍將以中國本土半導體產業為主，而非立即進軍全球市場。
DUV 的突破，不代表已追上 EUV
另一個容易被外界混淆的是，宇量昇目前突破的是 DUV，而非 EUV。
ASML 最難以複製的技術優勢在於 EUV（Extreme Ultraviolet）。EUV 整體技術門檻遠高於 DUV，也是目前全球僅有 ASML 能夠量產的高階光刻設備。
風險提示
加密貨幣投資具有高度風險，其價格可能波動劇烈，您可能損失全部本金。請謹慎評估風險。
