聯電聯手英特爾跳級搶進先進製程!業界傳入局 3 奈米、2027 年 12 奈米投片
台灣晶圓代工廠聯電(2303)今年稍早曝光將攜手美國晶片巨頭英特爾(Intel)在美國亞利桑那州研發 12 奈米 FinFET 製程,如今市場更傳出雙方合作將延伸至 3 奈米,有望成為聯電耕耘成熟製程多年以來,最關鍵的一次技術跳級。
英特爾助攻:聯電免扛上億資本支出,進入 12 奈米先進節點
AI 投研新創 Funda AI 週四發佈的報告指出,聯電目前正與英特爾合作,在英特爾位於美國亞利桑那州的廠房共同開發、生產 12 奈米 FinFET(鰭式場效電晶體架構)製程平台。這項合作之所以受到市場高度關注,關鍵在於其特殊的合作架構:
聯電無須自行興建新廠、也不必獨力負擔晶圓廠龐大的資本支出,就能將技術能力從原本擅長的成熟製程,一舉延伸至 12 奈米先進節點。
對於長年受限於資金規模、難以獨自挑戰先進製程的聯電而言,這種「借力」模式打開了一條低成本的升級捷徑。新製程將主要瞄準物聯網(IoT)、Wi-Fi 連接以及高速介面晶片等應用領域,這些市場相對成熟製程的競爭格局更為健康,有助於聯電逐步擺脫純成熟製程長期陷入的價格戰泥淖。
目前雙方合作進度穩定推進,時程表預計將於 2026 年開始向客戶交付 PDK(製程設計套件)及相關 IP,2027 年正式進入投片(Tape-out)階段,並於 2027 年底啟動商業量產。
傳聞延伸至 3 奈米:英特爾盼藉聯電經驗,叩關先進製程代工市場
除了 12 奈米之外,Funda AI 更透露聯電與英特爾據傳也將在 3 奈米製程上展開技術合作。若消息屬實,這項合作將複製 12 奈米項目的架構模式,為聯電省下大規模的資本支出。據悉這項合作的終極目標,是打造出一個效能有望接近台積電(TSMC)3 奈米水準的製程節點。
這對英特爾而言意義重大,透過聯電多年累積的純代工服務經驗與客戶基礎,英特爾有望補強自身在晶圓代工服務(Intel Foundry Services)上長期遭外界質疑的缺口,進而讓英特爾具備條件,向外部客戶提供具競爭力的 3 奈米代工服務,正面迎戰台積電在先進製程市場的領先地位。
(梳理「光進銅退」敘事:英特爾 EMIB 在 AI 光學互連技術上跑贏台積電了嗎?)
晶圓代工版圖出現「資本、技術互補」合作模式
這場合作背後反映的,不只是兩家公司各自的算盤,更象徵全球晶圓代工產業競爭模式的轉變。過去市場習慣以「台積電、三星、英特爾」三強鼎立的視角看待先進製程競賽,但聯電與英特爾的結盟,展示出一種新的可能性:
由一方提供既有產能與資本(英特爾的亞利桑那廠房),另一方挹注代工服務經驗與客戶關係(聯電),雙方分散風險並各取所需。
另一方面,筆者猜測,若 3 奈米合作消息最終屬實,也可能反映出英特爾原生先進製程(包括目前旗艦級的 18A-P)對外部客戶的吸引力,可能仍不如預期,因此需要借助聯電的力量打造解決方案,藉此分食原本可能流向台積電的訂單。
(英特爾 18A-P 製程進入風險試產!劍指蘋果大單,挑戰台積電晶圓代工版圖)
聯電成長故事添加「製程升級」新題材,週一股價受關注
對市場與投資人而言,這則消息為聯電的投資脈絡增添了新的層次。過去外界看待聯電,多聚焦於成熟製程稼動率與報價的循環性波動;而隨著 12 奈米、甚至潛在的 3 奈米合作案逐步落地,聯電有機會跳脫傳統成熟製程代工廠的角色定位,晉級到先進製程及高速運算、矽光子等新興應用領域帶來的成長動能。
短期景氣回溫疊加長期技術升級的雙重敘事,正讓市場重新評估聯電在全球晶圓代工版圖中的定位與潛力。
風險提示
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