ASML EUV 設備喊漲？台積電法說在即能否力守獲利承諾？
根據《The Information》報導，全球半導體曝光機龍頭艾司摩爾（ASML）計劃調漲晶片製造設備售價，但遭到其最大客戶台積電（TSMC）的抵制。由於 AI晶片需求爆發，帶動先進製程設備供不應求，不僅艾司摩爾，東京威力科創 (TEL) 等設備製造商也紛紛規劃長期調漲設備價格。台積電即將在今日 (7/16) 下午召開法說會，投資者將關注台積電如何應對成本上升並維持其獲利承諾。
設備商醖釀漲價潮，東京威力科創計劃長期提價達 50%
在當前半導體設備市場中，調漲售價已逐漸成為產業趨勢。日本半導體設備巨頭東京威力科創（TEL）在與媒體及賣方分析師（Sell-side Analyst）的會議中明確表示，計劃在長期內將設備價格提高至多 50%。由於整個半導體設備產業的交貨週期（Lead Time）顯著增加，供給端面臨產能限制，使設備製造商調高價格的意向顯得十分自然。ASML 同樣在法說會上釋出定價改善的訊號，預期未來設備價格將持續走高。
台積電法說會在即，面對漲價壓力能否保護利潤率？
面對設備商的集體漲價潮，報導指出台積電已開始進行反擊。台積電向來高度注重保護其利潤率，特別是其長期維持 53% 以上毛利率的承諾。若全盤接受漲價，台積電高昂的折舊成本將進一步侵蝕獲利表現。
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台積電全球業務資深副總經理暨副共同營運長張曉強在四月時曾表示，公司目前將持續使用現有的 EUV 曝光機進行技術升級，並延至 2029 年才會在晶片量產中布署艾司摩爾 (ASML) 最新的 High-NA EUV 設備。
(台積電 ADR 創新高，延後引進 ASML 高階設備控制成本)
台積電法說會將於 7/16 下午召開，投資者也將關注台積電是否提及對 ASML 漲價的抵制，以及未來資本支出的計劃。
ASML 上調營收預測，英特爾率先導入 High-NA 設備
儘管與大客戶出現定價分歧，艾司摩爾因市場需求強勁，今年已第二度上調年度銷售預測，預估全年淨銷售額將達到 430 億歐元（約 492 億美元）至 450 億歐元。此外，艾司摩爾證實，英特爾已率先採用每部售價超過 3.5 億歐元（約 4.1 億美元）的高數值孔徑極紫外光（High-NA EUV）微影設備投入晶片生產。相較於台積電先前認為該設備價格過高、僅限於研究用途的看法，英特爾的進展為新設備的商業可行性提供了實質支持。
(台積電、三星搶擴產，微影設備龍頭 ASML 全年營收上調 16%)
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