傳中國自主製造DUV曝光機，ASML與晶片設備股應聲下跌
據《The Information》報導，一家獲得中國官方資金支持的上海企業已開始量產特定晶片製造設備，此消息引發市場對艾司摩爾（ASML）核心營收面臨潛在威脅的擔憂。受此消息衝擊，ASML 股價一度下跌逾 8%，災情並迅速蔓延至全球半導體設備板塊。報導指出，該中國企業今年目標生產 5 台浸潤式深紫外光曝光機（DUV），並計劃於明年將產量擴增至 20 台，儘管整體進程仍處於早期階段。在美國主導的出口管制政策持續收緊的背景下，此技術進展引起全球投資人對於中國半導體自主化程度的高度關注。
中國 DUV 曝光機自主製造進展與產能規劃
根據匿名知情人士透露，該家總部位於上海的企業已開始製造浸潤式深紫外光曝光機（DUV）。該計畫整合了包含上海宇量昇科技在內的多家中國本地企業研發團隊。目前該生產進程仍處於早期階段，該公司預計今年內製造約 5 台 DUV 設備，並將明年的生產目標設定為 20 台。事實上，金融時報去年也曾報導，中國指標性晶圓代工廠中芯國際已開始測試由該上海新創企業所製造的 DUV 設備。
全球半導體設備股因潛在競爭而面臨拋售壓力
由於投資人對於任何可能動搖 ASML 市場壟斷地位的因素皆極為敏感，此報導直接引發了全球半導體設備股的拋售潮。ASML 股價創下 6 月以來新低，其跌勢亦波及歐美同行：歐洲設備商 ASM 國際（ASM International NV）盤中下跌 7.3%，貝思半導體（BE Semiconductor Industries NV）下跌 9.9%；美國半導體設備巨頭應用材料（Applied Materials Inc.）與科林研發（Lam Research Corp.）也分別出現 6.7% 與 7.9% 的跌幅，反映出市場對未來供應鏈結構轉變的擔憂。
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出口管制政策與中國市場的營收依賴
目前在美國主導的限制措施下，ASML 已被禁止向中國出口其最先進的極紫外光（Extreme Ultraviolet, EUV）曝光機，且部分先進 DUV 設備的銷售同樣受到限制。儘管 ASML 目前銷往中國的設備技術，與其最新型號相比已落後約 8 個世代，但中國市場在 2026 年第二季仍為該公司的第三大市場。因此，投資人不僅密切關注中國在美方圍堵下所取得的技術突破，更擔憂這將對西方設備廠商的長期銷售表現構成實質性擠壓。
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