中國自製 DUV 重擊晶片股!大摩:算力需求沒變、下跌反成更好買點

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中國自製 DUV 重擊晶片股!大摩:算力需求沒變、下跌反成更好買點

中國本土 DUV 光刻機量產進展引發市場拋售,摩根士丹利對此指出,這波由技術性因素驅動的下跌,與 AI 算力的長期需求格局無關,並重申逢低買入立場。多位市場分析師也同步發聲,認為艾司摩爾(ASML)等半導體設備股明顯過度反應,悲觀敘事不過是市場為了獲利了結尋找的理由。

中國 DUV 進展成導火線,晶片基本面股全線下跌

The Information 報導,一家位於上海的中國國有企業已進入浸潤式 DUV(深紫外線)光刻機的小量生產階段,今年目標約 5 台、2027 年擴大至 20 台,初期客戶預計為中芯國際、華虹與長鑫存儲(CXMT)。該機台據報仍部分依賴日本零件,性能與良率落後 ASML,且須通過數個月的測試驗證才能正式進入量產線。做為對比,ASML 去年共交付 131 台浸潤式 DUV 系統。

即便這對 ASML 而言並非立即性的威脅,但代表在西方出口管制的這段時間,中國在關鍵晶片製造設備國產化的努力上,已取得關鍵進展。

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傳中國自主製造 DUV 曝光機,ASML 與晶片設備股應聲下跌

大摩:半導體晶片股正去槓桿,基本面並無惡化

摩根士丹利對此指出,AI 基礎設施類股近期的疲弱走勢,主要原因在於部位過度擁擠後的技術性去槓桿,而非 AI 算力需求的實質轉弱。即便該行旗下偏好的 AI 基礎設施持股,過去一個月表現也落後全球指數約 7 個百分點;不過他仍認為這正是進場時機,並重申對 AI 基礎設施的看多立場。

針對市場另一個「企業可能透過限縮員工 token 用量來控制 AI 支出」的疑慮,摩根士丹利同樣給予否定,認為 AI 相關成本相對於它帶來的生產力提升,佔比仍屬微小。

X 分析師 Ren 引述此文並表示:「技術因素和槓桿瓦解並不會停止 AI 浪潮與需求的推進,反而創造了更好的買點。唯一的問題是,許多人已沒有足夠的現金來把握這個機會。」

中國 AI 模型的高效率,反而推升算力需求

摩根士丹利在報告中更特別反駁一個市場常見的熊市論點:中國大型語言模型(LLM)的效率提升將壓縮全球算力需求。

更低成本、更高效率的 AI 模型會讓 AI 的使用門檻降低、普及程度上升,進而帶動推論端(inference)的算力消耗擴大,實則利多而非利空。

隨著 AI 算力的核心戰場已從 training 轉移至 inference,這樣子的轉變也正在改寫 AI 基礎設施的設備細節,其中記憶體正首當其衝。

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利空消息是第一次出現嗎?市場本就預設要賣,才找理由

Citrini 分析師 Jukan 則認為,目前關於「半導體週期見頂、過度資本支出拖累獲利、中國推進技術自主」等所有利空,都是舊消息。他的理解是,市場本來就想要獲利了結,然後再回頭尋找合適的敘事來自圓其說,形成一種自我強化循環。

中國 DUV 進展不過是這個循環中最新被引用的素材,而 ASML 等半導體設備股因此承受的跌幅,在他看來已是過度反應

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摩根士丹利的佈局建議:押注算力瓶頸與能源安全

在投資組合配置上,摩根士丹利建議持有的標的涵蓋 AI 基礎設施瓶頸受益股、半導體製造相關企業、中國 AI 解決方案提供商、能源安全資產,以及超大規模雲端業者(hyperscaler),包括 Meta、Alphabet、Microsoft 與 Amazon 等。

該行也坦承,AI 基礎設施擴張面臨電力供應、人力短缺與政治阻力等現實挑戰,並估計美國在 2028 年前可能面臨高達 38 GW 的資料中心電力缺口,但定性這些障礙為「減速丘」而非「天花板」。

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