美智庫估中國囤 343 台浸潤式曝光機，籲對中全面禁運
美國智庫 Center for Technology & Statecraft（CTS）9 月 26 日發布報告，估計截至 2026 年第一季，中國本土晶圓廠已累積安裝約 343 台浸潤式 DUV 曝光機，其中約 270 台是艾司摩爾（ASML）目前仍可在取得許可後出口到中國的 NXT:1980i。報告由 CTS 資深研究員 Nicholas Brown 與主任 Saif M. Khan 撰寫，主張美國應全面禁止對中國出口浸潤式 DUV 設備。
約 270 台 NXT:1980i 可支援華為 AI 晶片所需的 7 奈米製程
報告估計，中國本土晶圓廠的浸潤式 DUV 存量中，NXT:1980i 約 270 台，占先進機型約 80%；其餘為 2021 到 2023 年間、在 2024 年 1 月全中國限制生效前進口的 22 台 NXT:2050i 與 6 台 NXT:2100i，以及約 45 台比 NXT:1980i 更舊的機型，合計約 343 台。估計值不含跨國企業在中國的晶圓廠。
報告指出，NXT:1980i 與 NXT:1970i 可支援 7 奈米邏輯製程與 HBM2e／HBM3 記憶體，對應的 AI 晶片包括華為昇騰 910C、950DT。荷蘭對這兩款機型出口到中國要求許可證，但報告稱公開資料顯示大量出貨獲准；NXT:1965i 以下的機型則不需要許可證，荷蘭的維修規定也允許艾司摩爾繼續維護中國已安裝的設備。
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報告寫道，中國在 2010 年代後期開始進口 NXT:1980i，2023 年荷蘭政府宣布管制更先進的機型後大幅加速進口。報告也提到，現有證據顯示中國 HBM 主要製造商長鑫存儲近年持續取得大量浸潤式 DUV 設備，華虹半導體可能也為了 7 奈米先進邏輯產線囤積多年。
建議全面禁運加禁止維修，估艾司摩爾年損 10 至 15 億美元
報告建議美國以全中國禁止出口取代現行的部分管制，涵蓋艾司摩爾與 Nikon 在美國境外生產的浸潤式 DUV；若日本或荷蘭不願意配合，美國可動用外國直接產品規則（FDPR）等權限單方面執行。報告也建議禁止外國人員維修中國先進製程晶圓廠的浸潤式 DUV，並限制蔡司投影光學元件、ArF 準分子雷射光源等關鍵零組件。
報告估計，若中國維持 2024 到 2025 年的 NXT:1980i 進口速度 5 到 10 年，並把設備全數投入 AI 晶片生產，每年可產出數億顆 H100 等效晶片，在部分情境下可能接近或超越美國與盟友的產量。報告認為，中國在 2030 年代中期前不太可能自行量產能支援 7 奈米的浸潤式 DUV。
對艾司摩爾的衝擊，報告估計短期主要損失是每年約 10 億至 15 億美元的中國維修收入，相當於艾司摩爾 2025 年營收的 3% 至 4%。報告也建議，中國境內的三星西安、SK 海力士無錫與大連、台積電南京等盟友企業晶圓廠，只要維持由母公司持有與營運，可豁免這些出口、零件與維修限制。
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